半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用超純水設(shè)備,實(shí)現(xiàn)清洗用水的高純度
半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展面臨著一些挑戰(zhàn)。其中之一是半導(dǎo)體的制造需要使用大量的水資源。在半導(dǎo)體的制造過程中,需要使用超純水來清洗半導(dǎo)體芯片,去除表面殘留的微粒和金屬離子。因此,超純水設(shè)備的性能對(duì)半導(dǎo)體的制造質(zhì)量有著重要的影響。
據(jù)了解,在半導(dǎo)體的制造過程中,需要保證其生產(chǎn)的清潔程度,所以使用的超純水設(shè)備產(chǎn)出的超純水作為清洗用水,其出水水質(zhì)可以達(dá)到電子級(jí)或工業(yè)級(jí)的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。一旦水質(zhì)不純,就會(huì)導(dǎo)致半導(dǎo)體芯片表面殘留的微粒和金屬離子不能完全去除,從而影響半導(dǎo)體的性能和質(zhì)量。因此,超純水設(shè)備的出水水質(zhì)對(duì)半導(dǎo)體的制造至關(guān)重要。
目前市面上常用的超純水設(shè)備應(yīng)用反滲透工藝和EDI系統(tǒng)相結(jié)合的工藝來制取超純水。該設(shè)備出水電阻率可達(dá)16 MΩ*cm(25℃),具有環(huán)保、經(jīng)濟(jì)、發(fā)展?jié)摿薮蟮戎T多優(yōu)勢(shì)。具體優(yōu)勢(shì)如下:
1、超純水設(shè)備內(nèi)應(yīng)用膜技術(shù)法,在保證系統(tǒng)高回收率的同時(shí),有效提高系統(tǒng)的產(chǎn)水水質(zhì)。
2、超純水設(shè)備可以連續(xù)穩(wěn)定地制備出質(zhì)量良好的超純水,不會(huì)因?yàn)闃渲偕鷨栴}而停止運(yùn)行,設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)比較嚴(yán)密,所以其占地面積非常小,可以為企業(yè)節(jié)省大量空間。
3、超純水設(shè)備內(nèi)應(yīng)用的EDI系統(tǒng)無須酸堿再生,是一種新型的脫鹽方式。該系統(tǒng)運(yùn)行成本低、自動(dòng)化程度高,可連續(xù)工作,出水水質(zhì)好且穩(wěn)定。
4、超純水設(shè)備遇故障能夠立即自停,具有自動(dòng)保護(hù)功能,且具有能耗低、水利用率高等優(yōu)勢(shì)。
總之,超純水設(shè)備在半導(dǎo)體行業(yè)中具有非常重要的應(yīng)用價(jià)值,可有效實(shí)現(xiàn)清洗用水的高純度。它不僅可以清洗半導(dǎo)體芯片表面的微粒和金屬離子,還可以制備高純度的化學(xué)試劑。同時(shí),超純水設(shè)備也需要符合半導(dǎo)體制造過程中的嚴(yán)格要求,以保證出水水質(zhì)的穩(wěn)定性和可靠性。
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